| Identifier
|
609 |
|
ชื่อเรื่อง |
THE EFFECT OF ANNEALING ON THE PROPERTIES OF ZNO:AL FILMS GROWN BY RF MAGNETRON SPUTTERING
|
|
ผู้สร้างผลงาน |
Rahmane, Saâd
|
|
ผู้สร้างผลงาน |
Abdou Djouadi, Mohamed
|
|
ผู้สร้างผลงาน |
Salah Aida, Mohame
|
|
หัวเรื่อง |
magnetron sputtering; Al doped ZnO; annealing temperature; properties
|
|
Description |
The effect of annealing temperature ranged from 200 to 600 °C on the structural, optical and electrical properties of aluminum doped zinc oxide (ZnO:Al) films was reported. The thin films were deposited on glass and silicon substrates by rf magnetron sputtering method using ZnO target (diameter 7,5 cm) mixed with 2 wt.% Al2O3. It has been found that the crystal structure of ZnO:Al films is hexagonal with c-axis preferential orientation. With an increase in the annealing temperature the intrinsic compressive stress was found to decrease, and near stress-free film was obtained after annealing at 600 °C. A resistivity of 1.25x10-3 cm and an average transmittance above 90 % in visible range were obtained for films prepared at room temperature.
|
|
Publisher |
Université de Biskra
|
|
Contributor |
Université de Biskra
|
|
วันที่ |
2014-06-12
|
|
ประเภท |
info:eu-repo/semantics/article
|
|
ประเภท |
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
|
|
ประเภท |
Article évalué par les pairs
|
|
รูปแบบ |
application/pdf
|
|
Identifier |
http://revues.univ-biskra.dz/index.php/cds/article/view/645
|
|
แหล่งข้อมูล |
Courrier du Savoir; Vol. 18 (2014): Courrier du Savoir
|
|
แหล่งข้อมูล |
Courrier du Savoir; Vol. 18 (2014): Courrier du Savoir
|
|
แหล่งข้อมูล |
1112-3338
|
|
แหล่งข้อมูล |
1112-3338
|
|
ภาษา |
fra
|
|
Relation |
http://revues.univ-biskra.dz/index.php/cds/article/view/645/601
|
แสดงรายละเอียดบรรณานุกรม
QR code
กลับ
Copyright 2025. All Rights Reserved.